易游yy体育 EPIREVO S8™ 200mm单晶圆SiC外延生长设备
EPIREVO™ S8 8” 单晶圆
SiC 外延反应器
EPIREVO™ S8 是一种外延生长系统，具有更大的直径，可以处理 200mm 晶圆，而无需改变支持 150mm 晶圆的 EPIREVO™ S6 的概念和占地面积。
功能
高生产力
- 实现超过50μm/小时的高速生长
- 维护周期长，可用性高
低缺陷密度
- 减少晶圆顶部的沉积并实现低坠落密度
- 长期保持低塌陷密度
出色的均匀性
- 优异的均匀性，膜厚分布为2%以下（EE=5mm），掺杂浓度为5%以下（EE=5mm）
晶圆表面内温度分布的控制
- 使用高温计监测晶圆表面温度
- IN加热器和OUT加热器的独立温度控制