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yy易游体育app EPIREVO™ G8 200mm 单晶圆硅基氮化镓 MOCVD 设备

EPIREVO™ G8 8” 单晶圆
硅基氮化镓 MOCVD

EPIREVO G8 200mm单晶圆硅基氮化镓MOCVD设备

EPIREVO™ G8 是一种 MOCVD 设备,可通过在 200 毫米硅基板上快速沉积高质量 GaN 来帮助降低发光二极管 (LED) 的成本。

功能

高生产力

  • 9微米/小时或更高的GaN薄膜的快速生长是可能的
  • 可实现200℃/分钟以上的高速升温

高品质

  • 200mm 晶圆上 2 度以内的出色温度分布
  • 1100℃无滑移、无硅回熔

低成本

  • TMG 利用率高达 20% 以上
  • 通过原位清洁实现高可用性
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