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易游体育 多电子束掩模写入系统MBM™-2000

兼容 3nm 节点

MB 掩码写入器
MBM™-2000

多电子束掩模写入设备MBM-2000

多电子束掩模光刻系统，支持 3nm 节点一代先进掩模的大规模生产。

功能

  • 1) 超过26万束电子束的高速、高精度控制
  • 2) 使用 PLDC（像素级剂量校正）技术实现具有出色对比度的绘图性能
  • 3) 实现高吞吐量和高精度渲染，与数据复杂性无关

规格

规格
面罩尺寸 6英寸
位置精度 14nm(3σ)
尺寸精度 07nm(3σ)
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