yy易游体育中国官方网站 可变整形电子束掩模写入设备EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
兼容 16/14nm 节点兼容45-20nm节点
EB 掩模写入器
EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
EBM-8000P/H 兼容16/14nm节点兼容45-20nm节点的EBM-8000P/M可供选择。
功能
- 1) 50kV加速电压下对比度优异的绘图性能
- 2) 可变载物台移动和高电流密度（400A/cm2)
- 3) 在广泛的技术节点领域实现高 COO（拥有成本）
规格
| 规格 | EBM-8000P/H | EBM-8000P/M |
|---|---|---|
| 面罩尺寸 | 6英寸 | 6英寸 |
| 位置精度 | 43nm(3σ) | 60nm(3σ) |
| 尺寸精度 | 13nm (3σ) | 25nm (3σ) |