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电子束 (EB) 掩模刻录机

远远领先于我们的竞争对手，全球市场份额名列前茅！

EB 掩模写入机用于创建一组光掩模，这些光掩模在集成电路制造中定义图案层，并将通过光刻工艺转移到硅晶圆上。随着半导体集成规模的增加，EB 掩模刻录机在 20 世纪 70 年代末开始投入实际应用，以绘制精细的几何图案。现在，它们已成为半导体器件制造的关键技术。 NuFlare 为 EB 掩模写入器提供无与伦比的性能，在全球市场上几乎处于垄断地位。

口罩检测系统

掩模检测系统用于检测由电子束（EB）掩模写入机步进的光掩模图案中的缺陷，以提高半导体器件的产量。随着工艺技术的不断缩小，光掩模上绘制的电路图案变得越来越复杂，使得掩模检测系统变得更加重要。 2006 年，Nuflare 进入掩膜检测系统业务，为我们的客户提供 EB 掩膜刻录机和检测系统。掩模检查系统提供可靠的检查，因为它们使用与 EB 掩模写入器相同的数据。此外，我们的掩模检测系统有效地集成了多种功能，以提高灵敏度并减少检测时间。

外延生长系统

外延生长是在硅片上沿均匀结晶方向形成一层单晶材料的过程。外延生长系统用于制造发光二极管 (LED) 以及混合动力和电动汽车应用的功率器件的外延晶圆。 NuFlare 在外延生长系统的制造和销售方面拥有 30 多年的经验。 2013 年，我们将金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 系统商业化，用于制造硅基氮化镓 (GaN-on-Si) LED。 2014年，我们发布了用于碳化硅（SiC）器件的CVD系统。今天，我们是世界公认的高效、精密外延生长系统的制造商。