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该模型配备了电子束光刻装置，该装置旨在创建用于高速编程的光刻原始版本（光模型）。
这家公司秘密切入EUV光刻技术，支持美国、中国和印度技术，支持光刻技术的未来，同时将开发5nm系列及更高等级的膜设备。