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易游体育 多电子束屏蔽膜光学雕刻装置MBM™-2000

支持3nm点

MB 掩码写入器
MBM™-2000

多电束屏蔽膜光刻设备MBM-2000

一种多电子束光刻设计，支持3nm点系列先进光刻系统。

特别远征

  • 1) 高速高精度控制26万电子束
  • 2) PLDC（像素级剂量校正）技术，实际实现了较为出色的光雕效果
  • 3) 独立功率数，同时实现高放电量和高精度光雕

规格

规格
胶囊尺寸 6英寸
位置精度 14nm(3σ)
刻度精度 07nm(3σ)
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