易游体育中国官网 可更换成型电子束屏蔽膜光学雕刻设备EBM-9500PLUS
支持7nm+/5nm点
EB 掩模写入器
EBM-9500PLUS
一种可变成型多电子束光刻设备，支持7nm+/5nm范围的光刻。
特别远征
- 1) 已实现50kV加速电流，光雕效果出色
- 2) 运输平台变速运动和高电流密度（1200A/cm2) 实现高产量
- 3) 实现了高COO（Cost of Ownership）
规格
| 胶囊尺寸 | 6英寸 |
|---|---|
| 位置精度 | 18nm(3σ) |
| 刻度精度 | 13nm(3σ) |
