yy易游体育app 可变模制电子束屏蔽膜光学雕刻设备EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
支持16/14nm点支持45-20nm点
EB 掩模写入器
EBM-8000P/H・EBM-8000P/M
多种可变成型多电子束光刻设备，支持45-14nm范围的光刻。
特别远征
- 1) 已实现50kV加速电流，光雕效果出色
- 2) 可变速的车辆平台和高电流密度（400A/cm2）实现了高放电量
- 3) 拥有成本
规格
| 胶囊尺寸 | 6英寸 |
|---|---|
| 位置精度 | 50kV |
| 秤精度 | 1200A/cm2 |
